采用磁控溅射方法制备金属锑薄膜，并把它作为锂离子二次电池负极进行研究。

这是溅射离子簇质谱中继“幻数”结构的另一个重要性质。

研究结果表明，磁控溅射制备的碳氟膜为非晶结构。

本文主要论述基板员偏压与铜基体磁控溅射离子镀铝膜的关系。

溅射原子发射的角分布概率和溅射花样与高能溅射相类似。

所述的合金组合物优选形成为用于薄膜应用领域的溅射靶。

在双元靶严格解的基础上，证明了泽优溅射与原子的半径大小无关。

现在反应溅射法已被广泛应用于切削刀具、成型工具、注射模具和诸如冲头和冲模之类的通用器具，以增强其耐磨性和使用寿命。

研究了用铟锡合金靶直流磁控反应溅射制备ITO透明号电膜。

为改善射频溅射法制备的防水透湿涂层的外观和拒水性，对涤纶织物基底上的溅射氟碳高分子膜的泛黄问题进行了研究。